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• SiC用高溫離子注入設備 IH-860DSIC
  

  搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤）的面向SiC量產用的高能粒子注入裝置。

  購買咨詢

  若想了解更多請致電182-2185-4021

  • 產品特性 / Product characteristics

  • • 可實現自動連續高溫處理注入

    • 1價離子可注入至350keV、2價離子可注入至700keV

           （Option：1價離子可注入至430keV、2價離子可注入至860keV）

    • 通過Dual-End-Station（雙工位）實現高產能；

           （A系4"高溫ESC/B系3"高溫ESC、A系6"高溫ESC/B系6"常溫ESC等等，可配合客戶的希望就行規格配置）

    • 可減輕操作員的負擔

    •      緊湊式設計

    • 可大范圍對應從試作到量產的各類需求

     
  • 產品應用 / Product application

  • •  對應SiC的離子注入裝置。

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