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    低加速、高濃度對應的離子注入設備。

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    研究開發(fā)用中電流離子注入設備IMX-3500

    IMX-3500

    中電流離子注入裝置IMX-3500為最大能量200keV、對應最大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置，適用于大學等機構(gòu)的研究開發(fā)。

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    SiC用高溫離子注入設備 IH-860DSIC

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