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    量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。

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  • 高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H

    NE-7800系列

    高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高難度刻蝕材料（強電介質層、貴金屬、磁性膜等）的Multi-Chamber型低壓高密度等離子刻蝕設備。

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  • 研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570
    研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570

    NLD系列

    研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發科磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。

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  • 干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
    干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX

    NE-950系列

    對應LED量產專用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發科自有的星型電極的干法刻蝕設備。

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  • 對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700

    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產用干法刻蝕裝置。（可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

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  • 批處理式自然氧化膜去除設備 RISE-300
    批處理式自然氧化膜去除設備 RISE-300

    RISE系列

    批處理式自然氧化膜去除設備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜的批處理式預清洗裝置。可處理200mm，300mm尺寸晶圓。

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