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• 干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
  

  對應LED量產專用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發科獨自開發的星型電極的干法刻蝕設備。

  購買咨詢

  若想了解更多請致電182-2185-4021

  • 產品特性 / Product characteristics

  •  •      4 inch晶圓可放置7片同時處理，6 inch晶圓可實現3片同時處理，小尺寸晶圓方面，2 inch晶圓可實現29片、3英寸可對應12片同時處理。

    • 搭載了在化合物半導體領域擁有600臺以上出貨實績的有磁場ICP（ISM）高密度等離子源。
    • 高生產性（比以前提高140%）。
            ※1 愛發科專利第3188353號
    • 為防止RF投入窗的污染待在了愛發科獨自開發的星型電極。
            ※2 愛發科專利第3429391號
    • 徹底貫徹Depo對策，實現了維護便利、長期穩定、高信賴性的硬件。
    • 擁有豐富的工藝應用的干法刻蝕技術（GaN藍寶石、各種Metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半導體）。
    • 豐富的可選機能。
     
  • 產品應用 / Product application

  •  •       對應LED的GaN、藍寶石、各種金屬、ITO等的干法刻蝕設備

     
  • 產品參數 / Product parameters
• 產品系列

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