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  • 研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570
    研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570

    NLD系列

    研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發科獨創的磁性中性線（NLD- Neutral Loop Discharge）等離子源的裝置，此NLD技術可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。

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  • Load-lock式Plasma CVD設備 CC-200/400
    Load-lock式Plasma CVD設備 CC-200/400

    CC-200/400系列

    Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究開發到量產的設備。

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    Load-lock式濺射設備CS-200

    CS-200系列

    Load-lock式濺射設備CS-200，是可對應從研究開發到小規模量產的濺射設備。

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  • Multi-chamber型濺射裝置SME-200系列
    Multi-chamber型濺射裝置SME-200系列

    SME-200系列

    SME-200系列是可搭載多個工藝腔體（最大搭載3室的200E，最大5室的200J，及最大搭載7室的200）的Multi-Chamber式濺射設備。

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  • 干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
    干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX

    NE-950系列

    對應LED量產專用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發科獨自開發的星型電極的干法刻蝕設備。

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  • 對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700

    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- Neutral Loop Discharge）等離子源的量產用干法刻蝕裝置。（此愛發科獨創的NLD技術設備可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

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